スパッタリング装置

スパッタリング装置（スパッタ装置）は、真空中での薄膜を製造するための真空装置で様々な薄膜形成に利用されています。シリコンウェハー、ガラス、金属材料、電子材料、フィルム、樹脂、その他材料への金属材料の膜付で活躍します。
東横化学では、お客様の目的や予算枠に応じて複数のスパッタリング装置（スパッタ装置）を販売しております。
カタログの仕様範囲外のスパッタリング装置（スパッタ装置）でも、お客様の目的に合致するよう対応致します。スパッタ装置に関することでしたら、何でもお気軽に御相談下さい。

詳細のページには、PDFカタログを掲載しています。
スパッタリング装置（スパッタ装置）のデータをダウンロードして内容をお確かめください。↓↓