EPI Instruments社 水素水供給装置
- 半導体、ディスプレイ製造工程における洗浄機能水の供給装置です
- EPI Instruments社はエレクトロニクス業界、特にディスプレイ業界向けにオゾン発生技術をベースとしたオゾン水等の機能水供給装置を多数展開しております
- 基板のパーティクル除去に最適です
- 化学品を使用しないため環境負荷が低く、薬品コストと排液処理コストを削減できます
- 水素は装置内で水電解により発生させます。水素検知器も搭載しており安全に十分配慮しております
特長① 基板表面からのパーティクル除去
- 水素水の水素ラジカルの電気的反発を利用し、基板表面からパーティクルを引き剥がします
- 水素ラジカルは引き剥がしたパーティクルにも電位を持たせるため、基板への再付着を防止できます
- 副次的に基板表面のウォーターマークも抑制できます
- 水素水にアンモニアを添加することにより、洗浄効果を強化することができます
特長② 化学品、排水処理コストを大幅に削減
- 水素水のみ使用の場合、洗浄排液は水のみです
- 洗浄力強化のためアンモニア（NH4OH）を使用したとしても、その使用量は数ppmです 従来の洗浄方法に比べ非常に少量です
- 洗浄における化学品の使用量を削減でき、環境に配慮したプロセスを構築できます
- 同時に化学品コスト、排水処理コストを削減できます
水素水の性能
パーティクル除去、および再付着防止性能
水素水のパーティクル除去性能について、除去率を評価しました
＜評価条件＞
基板：Al2O3
洗浄：水素水
方法：枚葉洗浄300rpm、超音波印加1.5MHz、洗浄時間10秒
＜評価結果＞
水素1ppmの水素水で除去率95%以上の性能があることがわかりました
パーティクル除去評価結果
（横軸 水素濃度ppm, 縦軸 除去率%）
商品ラインナップ
水素水供給装置
仕様
| 水素水供給装置 | |
|---|---|
| 流量ラインナップ | 10 / 50 / 70 / 90 / 100 / 140 L/min |
| 溶存水素濃度 | 2ppm @ 140L/min |
| 電気伝導率 | 20μS/cm ~ 200μS/cm |
| 溶存水素濃度計 | ○ |
| 溶存アンモニア濃度計 | ○ |
| ユーザーインターフェース | タッチパネルディスプレイ |
| SEMI通信規格 | SECS-II / GEM 準拠 |
| 電源 | 240VAC Φ1 25A |
| ユーティリティ | DI、乾燥空気、窒素、排水、筐体排気 |
| ユーティリティ （アンモニア添加オプション） |
水酸化アンモニウム（NH4OH）、アルカリ排水、アルカリ排気 |
| 外寸 | 1,150(w) x 910(d) x 1,950(h) mm |
| 重量 | 約500kg |
外観
EPI Instruments社 水素水供給装置の電話でのお問い合わせ
MIRAI事業開発チーム
担当：竹下
TEL：044-435-5878（直通）