当社が開発した"Ailesic"は、SICパワーデバイスの性能を飛躍的に向上させるとともに安定した量産に貢献します。
スパッタリング装置(スパッタ装置)は、真空中での薄膜を製造するための真空装置で様々な薄膜形成に利用されています。
ALD装置は原子層堆積装置のことです。 一原子層毎の精密な成膜プロセスで使用します。