EPI Instruments社 水素水供給装置

  • 半導体、ディスプレイ製造工程における洗浄機能水の供給装置です
  • EPI Instruments社はエレクトロニクス業界、特にディスプレイ業界向けにオゾン発生技術をベースとしたオゾン水等の機能水供給装置を多数展開しております
  • 基板のパーティクル除去に最適です
  • 化学品を使用しないため環境負荷が低く、薬品コストと排液処理コストを削減できます
  • 水素は装置内で水電解により発生させます。水素検知器も搭載しており安全に十分配慮しております
EPI Instruments社 水素水供給装置

特長① 基板表面からのパーティクル除去

  • 水素水の水素ラジカルの電気的反発を利用し、基板表面からパーティクルを引き剥がします
  • 水素ラジカルは引き剥がしたパーティクルにも電位を持たせるため、基板への再付着を防止できます
  • 副次的に基板表面のウォーターマークも抑制できます
  • 水素水にアンモニアを添加することにより、洗浄効果を強化することができます

特長② 化学品、排水処理コストを大幅に削減

  • 水素水のみ使用の場合、洗浄排液は水のみです
  • 洗浄力強化のためアンモニア(NH4OH)を使用したとしても、その使用量は数ppmです
    従来の洗浄方法に比べ非常に少量です
  • 洗浄における化学品の使用量を削減でき、環境に配慮したプロセスを構築できます
  • 同時に化学品コスト、排水処理コストを削減できます

水素水の性能

パーティクル除去、および再付着防止性能

水素水のパーティクル除去性能について、除去率を評価しました

<評価条件>

  • 基板:Al2O3
  • 洗浄:水素水
  • 方法:枚葉洗浄300rpm、超音波印加1.5MHz、洗浄時間10秒

<評価結果>

水素1ppmの水素水で除去率95%以上の性能があることがわかりました

パーティクル除去評価結果

パーティクル除去評価結果
(横軸 水素濃度ppm, 縦軸 除去率%)

商品ラインナップ

水素水供給装置

仕様

  水素水供給装置
流量ラインナップ 10 / 50 / 70 / 90 / 100 / 140 L/min
溶存水素濃度 2ppm @ 140L/min
電気伝導率 20μS/cm ~ 200μS/cm
溶存水素濃度計
溶存アンモニア濃度計
ユーザーインターフェース タッチパネルディスプレイ
SEMI通信規格 SECS-II / GEM 準拠
電源 240VAC Φ1 25A
ユーティリティ DI、乾燥空気、窒素、排水、筐体排気
ユーティリティ
(アンモニア添加オプション)
水酸化アンモニウム(NH4OH)、アルカリ排水、アルカリ排気
外寸 1,150(w) x 910(d) x 1,950(h) mm
重量 約500kg

外観

外観

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MIRAIチーム
担当:矢澤・竹下
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