スパッタリング装置は、真空中で金属材料の薄膜を製造する真空装置で様々な薄膜形成に利用されています。
SSP3000スパッタリング装置は、高性能・高品質と低価格を実現したコンパクトな研究開発用小型スパッタ装置です。
更にロードロック室の追加や積層成膜、基板高温加熱等のオプション要素にも対応します。
基本性能がしっかりしているため、大学・研究所などにおける成膜実験に最適です。
放電の様子
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東横化学株式会社 機器・装置事業部 機器販売部
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