スパッタリング装置

スパッタリング装置(スパッタ装置)は、真空中での薄膜を製造するための真空装置で様々な薄膜形成に利用されています。シリコンウェハー、ガラス、金属材料、電子材料、フィルム、樹脂、その他材料への金属材料の膜付で活躍します。
東横化学では、お客様の目的や予算枠に応じて複数のスパッタリング装置(スパッタ装置)を販売しております。
カタログの仕様範囲外のスパッタリング装置(スパッタ装置)でも、お客様の目的に合致するよう対応致します。スパッタ装置に関することでしたら、何でもお気軽に御相談下さい。

詳細のページには、PDFカタログを掲載しています。
スパッタリング装置(スパッタ装置)のデータをダウンロードして内容をお確かめください。↓↓

四重極型質量分析計(マスフィルタ)

真空中に、どのような種類のガス成分が残っているかを分析する計測器です。薄膜製造装置のガス分析から炉内や加速器、スペースチャンバに至るまで、様々な分野でのガス分析に使用されています。

ヘリウムリークディテクタ

真空機器のシール面や溶接箇所のリークの有無をヘリウムガスを用いて検知することができます。 コンパクト型、ハイパワー型、ドライポンプ型、量産製品向けコンソール型の用途に合わせて機種選択が可能です。

低温トラップ(インライントラップ)

真空装置のあら引きラインにおいて、真空度を良くするために使用されてきた、「液体窒素トラップ(LN2トラップ)」や、固形の吸着剤を用いてオイルバックを防ぐ「フォアライントラップ」に替わる、自ら冷凍機を搭載した新開発のトラップです。

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東横化学株式会社 機器・装置事業部 機器販売部
機器販売チーム:小野邉(オノベ)
TEL:044-435-5856(直) FAX:044-434-9091